真空气氛炉的用途

真空气氛炉是一种在气氛保护下对材料烧结的真空电炉，主要用于氮化硅、碳化硅等陶瓷材料在气氛（如N2、Ar、H2）下烧结，也可用于其他材料的吸氮、吸氢反应。气氛烧结炉用石墨或贵金属做发热体，发热体在非氧化性气氛下通过流经的电流发热，在炉体内部产生大量的热量。炉体内部使用碳毡或全金属作为隔热、保温层，炉壁为双层水冷结构，把炉体内散出的热量带走，从而使炉壁温度不会过高。